拓荊科技股份有限公司主要從事半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列，已廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線，并已展開(kāi)10nm及以下制程產(chǎn)品驗(yàn)證測(cè)試。

公司通過(guò)在薄膜沉積設(shè)備這一半導(dǎo)體核心設(shè)備細(xì)分領(lǐng)域的積累和快速發(fā)展，已經(jīng)成為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的企業(yè)，三次獲得中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)頒發(fā)的“中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備五強(qiáng)企業(yè)"稱號(hào)。公司設(shè)備以優(yōu)異的薄膜性能、具有競(jìng)爭(zhēng)力的生產(chǎn)成本、高效的售后服務(wù)，贏得了廣泛的市場(chǎng)空間。目前，公司已形成覆蓋二十余種工藝型號(hào)的薄膜沉積設(shè)備，滿足下游客戶晶圓制造產(chǎn)線多種薄膜沉積工藝需求，公司產(chǎn)品已廣泛用于中芯國(guó)際、華虹集團(tuán)、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)等國(guó)內(nèi)主流晶圓廠產(chǎn)線。