KAIJO楷捷/兆聲波晶圓清洗機/干燥設(shè)備/C-78Q-71
超聲波清洗主要原理:
1.空化作用
2.加速度
3.物理化學的反應(yīng)促進作用
超聲波清洗應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體晶圓、硅晶片、復(fù)合晶片、太陽能電池、 HDD (媒體、基板和組件)、磁頭、平板顯示、玻璃、藍寶石、水晶印刷電路板、膜、陶瓷、 橡膠、樹脂模塑制品、汽車、電子、醫(yī)療、加工、精密零件、沖壓零件、模具、 金屬零件
更新日期:2024-05-31型號:C-78Q-71廠商性質(zhì):經(jīng)銷商瀏覽量:361